通常在低溫下激光切割加工時(shí)，以對(duì)數(shù)和反對(duì)數(shù)為主，而在中溫和高溫下則往往呈現(xiàn)拋物線或線規(guī)律金屬氧機(jī)理金屬氧形成致密氧膜是個(gè)十分復(fù)雜的過程，它既包括多相界面反應(yīng)，又包括氧膜內(nèi)離子、電子的移動(dòng)或擴(kuò)散的輸送過程多項(xiàng)界面反應(yīng)包括①氧在氧膜上的附著和吸附；②吸附的氧原子獲得氧物中的電子，成為氧陰離子進(jìn)入氧物；③金屬原子在金屬氧物界面失去電子，成為金屬陽離子和電子進(jìn)入氧物輸送過程則包括金屬陽離子和電子從金屬氧物界面通過氧物向外擴(kuò)散或氧陰離子從氣體氧物界面向金屬面的向內(nèi)擴(kuò)散，或它們的雙向擴(kuò)散而且氧物生長的動(dòng)力學(xué)過程又和定氧條件下在氧物中所建立起來的濃度梯度學(xué)位梯度、電場(chǎng)電位梯度和氧物膜層內(nèi)過剩電荷所形成的空間電荷層有關(guān)。金屬的氧機(jī)理要考慮上述因素同時(shí)，由于生成的氧膜厚度不同，其氧動(dòng)力學(xué)與機(jī)理也有所不同，所以，金屬的氧機(jī)理的討根據(jù)氧膜厚度的不同般可分為薄、薄及厚氧膜三種況進(jìn)行分析薄氧膜。它指厚度的氧膜，由于氧膜薄，氧的離解吸附產(chǎn)生的電場(chǎng)作用較。此時(shí)，維持氧膜生長所需的金屬離子和電子的擴(kuò)散只需要考慮電位梯度。
通常在低溫下激光切割加工時(shí)，以對(duì)數(shù)和反對(duì)數(shù)為主，而在中溫和高溫下則往往呈現(xiàn)拋物線或線規(guī)律金屬氧機(jī)理金屬氧形成致密氧膜是個(gè)十分復(fù)雜的過程，它既包括多相界面反應(yīng)，又包括氧膜內(nèi)離子、電子的移動(dòng)或擴(kuò)散的輸送過程多項(xiàng)界面反應(yīng)包括①氧在氧膜上的附著和吸附；②吸附的氧原子獲得氧物中的電子，成為氧陰離子進(jìn)入氧物；③金屬原子在金屬氧物界面失去電子，成為金屬陽離子和電子進(jìn)入氧物輸送過程則包括金屬陽離子和電子從金屬氧物界面通過氧物向外擴(kuò)散或氧陰離子從氣體氧物界面向金屬面的向內(nèi)擴(kuò)散，或它們的雙向擴(kuò)散而且氧物生長的動(dòng)力學(xué)過程又和定氧條件下在氧物中所建立起來的濃度梯度學(xué)位梯度、電場(chǎng)電位梯度和氧物膜層內(nèi)過剩電荷所形成的空間電荷層有關(guān)。金屬的氧機(jī)理要考慮上述因素同時(shí)，由于生成的氧膜厚度不同，其氧動(dòng)力學(xué)與機(jī)理也有所不同，所以，金屬的氧機(jī)理的討根據(jù)氧膜厚度的不同般可分為薄、薄及厚氧膜三種況進(jìn)行分析薄氧膜。它指厚度的氧膜，由于氧膜薄，氧的離解吸附產(chǎn)生的電場(chǎng)作用較。此時(shí)，維持氧膜生長所需的金屬離子和電子的擴(kuò)散只需要考慮電位梯度。
而不計(jì)及濃度梯度的作用等提出了薄氧膜下金屬氧的機(jī)理。在激光切割加工反應(yīng)速度要考慮金屬離子遷移和電子遷移兩方面，若金屬離子脫離基體晶格移向氧膜所需的功為，而電子根據(jù)熱電子發(fā)射現(xiàn)象由電子占有的高能級(jí)費(fèi)米能級(jí)移向氧物的傳導(dǎo)帶所需的功函數(shù)為中。則存在兩種況當(dāng)小時(shí)，離子的移動(dòng)快于電子的移動(dòng)，則電子的移動(dòng)成為反應(yīng)速度的控制因素。在此況下，膜的成長速度與電子根據(jù)量子力學(xué)的效應(yīng)穿透膜的幾率成正比，按量子力學(xué)計(jì)算，此時(shí)氧膜的生長就服從對(duì)數(shù)規(guī)律： 實(shí)際中，如在以下氧時(shí)就屬于這種況當(dāng)時(shí)，則電子的移動(dòng)快于離子的移動(dòng)，此時(shí)離子的移動(dòng)就成為氧速度的控制因素，在這種況下，氧膜的生長服從反對(duì)數(shù)規(guī)律，即 等金屬在室溫或低于室溫下的氧符合這種規(guī)律薄氧膜。
它是指厚度為至左右的薄膜。此時(shí)，由于膜增厚，膜中的電場(chǎng)強(qiáng)度已減弱，電場(chǎng)對(duì)傳遞過程的作用已不如初始明顯，而離子的濃度梯度及其學(xué)勢(shì)已開始有所作用，離子的移動(dòng)已成為膜成長的控制因素對(duì)于金屬過剩型氧物即型半導(dǎo)體氧物，其氧膜成長的控制因素是晶格間隙金屬離子通過膜的移動(dòng)，即反應(yīng)速度與晶格間隙金屬離子流成正比，經(jīng)計(jì)算明，其氧速度服從拋物線規(guī)律鋁在時(shí)的氧，鋅在時(shí)的氧就屬于這種況對(duì)于金屬不足型氧物即型半導(dǎo)體氧物，其氧速度與金屬陽離子空位和電子空位密切相關(guān)，而金屬陽離子空位濃度和電子空位濃度又與金屬氧物吸附氧原子的面濃度有關(guān)。據(jù)此計(jì)算，此時(shí)的激光切割加工氧速度服從立方規(guī)律，即 在時(shí)的氧，在及的氧，向的氧均屬此類厚氧膜 拋物線氧理。隨著金屬氧膜的增厚如，其氧動(dòng)力學(xué)規(guī)律常見的是拋物線關(guān)系。 年建立了有關(guān)氧膜拋物線生長動(dòng)力學(xué)規(guī)律的理，對(duì)于厚膜氧， 提出電子離子理的氧機(jī)理，他認(rèn)為定厚度的氧膜，可視為固體電解質(zhì)。
